Icp-ms-la-gi-a-ewda1

Icp-Ms Là Gì

Hệ thống ICP-MS là gì mà được sử dụng phổ biến trong các phòng thí nghiệm môi trường để phân tích nguyên tố mẫu trong môi trường có tiếng ồn xung quanh cao. Ngoài ra, còn có một hệ thống khác có đặc tính tương tự ICP-MS có thể được sử dụng như một giải pháp thay thế với nhiều đặc tính nổi bật là Máy đo phổ phát xạ quang Plasma ghép nối cảm ứng ICP-OES (Inducised Coupled Plasma Optical Emission Spectroscopy). Những ưu điểm của việc sử dụng ICP-OES bao gồm dải động rộng, tính toán, dung sai ma trận cao và tăng tốc độ phân tích so với các kỹ thuật phân tích nguyên tố khác như khối phổ plasma (ICP-MS) hoặc quang phổ hấp thụ nguyên tử (AAS).

Icp-Ms Là Gì? Hệ thống quang phổ phát xạ plasma kết hợp cảm ứng ICP-OES là gì?

ICP-OES là một hệ thống kết hợp giữa quang phổ phát xạ plasma và hệ thống cảm ứng. Nguyên tắc chung tương tự như ICP-MS. Khối plasma sẽ kích thích các nguyên tử và ion đi qua. Khi một nguyên tử hoặc ion bị kích thích, các electron của nguyên tử hoặc ion đó sẽ nhảy từ mức năng lượng thấp hơn lên mức năng lượng cao hơn (xem hình vẽ).

Các electron này sau đó trở lại trạng thái ban đầu, lúc này năng lượng được phát ra dưới dạng photon. Các photon phát ra có đặc điểm bước sóng của các nguyên tố tương ứng.

Icp-ms-la-gi-a-ewda4

Cách hoạt động của hệ thống ICP-OES

Một phần tử có thể có nhiều mức kích thích và thư giãn điện tử, và do đó có nhiều bước sóng đặc trưng. Hình dưới đây cho thấy một ví dụ về quang phổ phát xạ của canxi.

Icp-ms-la-gi-a-ewda3

Xem thêm: Đam Mỹ Là Gì?

Mức độ phát thải canxi trong ICP-OES

Hệ thống ICP-OES sử dụng phổ phát xạ riêng của từng nguyên tố để xác định và định lượng chúng.

Tổng hợp các thiết bị phân tích môi trường phổ biến nhất

Ứng dụng hệ thống – Phương pháp ICP-OES.

ICP-OES là công nghệ được lựa chọn cho nhiều ứng dụng, bao gồm phân tích công nghiệp:

Môi trường Hóa chất Luyện kim Hóa chất Vật liệu Nghiên cứu Thuốc An toàn Thực phẩm

Kỹ thuật này có thể được áp dụng cho các loại mẫu khác nhau, chẳng hạn như chất lỏng và chất rắn, cũng như các mẫu nước và hữu cơ được đặc trưng bởi tiếng ồn xung quanh cao. Một số loại mẫu này yêu cầu các kỹ thuật chuẩn bị mẫu cụ thể hoặc sử dụng các phụ kiện cụ thể để thực hiện phân tích đúng cách.

Công nghệ hệ thống ICP-OES

Công nghệ ICP-OES là một kỹ thuật phân tích nguyên tố thu thập dữ liệu bằng cách phân tích phổ phát xạ của các nguyên tố được kích thích trong hệ thống tạo plasma nhiệt độ cao.

Một mẫu (chất lỏng) được đưa vào plasma và một hệ thống quang học (quang phổ kế) được sử dụng để tách bước sóng ánh sáng cho các phần tử cụ thể, tập trung ánh sáng đã phân giải vào máy dò một cách hiệu quả nhất có thể. Máy quang phổ bao gồm một thiết bị đầu cuối quang học và một bộ phân tách đơn sắc hoặc đa sắc. Khi ánh sáng rời khỏi bộ đơn sắc hoặc bộ đa sắc, nó sẽ tập trung vào bộ dò và tín hiệu thu được được xử lý để định lượng thành phần nguyên tố.

Một thiết bị ICP-OES bao gồm bốn thành phần cơ bản: hệ thống lấy mẫu, nguồn kích thích (plasma), quang phổ kế (bộ chọn bước sóng) và máy dò. Cấu trúc của máy ICP-OES như sau:

Icp-ms-la-gi-a-ewda2

  • Cấu tạo máy ICP-OES.
  • Công nghệ hệ thống đo khối phổ – Plasma cảm ứng
  • Nguyên lý hoạt động của hệ thống sắc ký khí-khối phổ
  • Cấu tạo của thiết bị xử lý nước thải bằng tia cực tím

Tham khảo thêm: NCB Là Ngân Hàng Gì ?

Plasma là gì?

Để xảy ra hiện tượng phát xạ, dung môi hòa tan trong mẫu phải bay hơi. Ngoài ra, phần còn lại của mẫu phải bay hơi và các phân tử hiện có phân tách thành các nguyên tử. Đây là tất cả các trách nhiệm của đơn vị plasma trong hệ thống ICP-OES.

Chính xác thì huyết tương là gì?

ICP-OES plasma là một chất khí (thường là argon) đã được ion hóa đáng kể trong trường tần số vô tuyến dao động (RF). Trường RF làm cho các ion khí dao động, dẫn đến nhiệt độ cực cao. Nhiệt độ tạo ra bên trong plasma có thể cao tới 10.000 ° C. Một ví dụ về trạng thái giống plasma trong tự nhiên là tia chớp.

Trong không gian, các ngôi sao như mặt trời chủ yếu được tạo ra từ plasma.

Ngọn lửa plasma

Việc tạo ra plasma được thực hiện bởi một “ngọn đuốc” plasma bao gồm ba ống thạch anh: ống bên ngoài của mỏ hàn, ống phụ và vòi phun. Một luồng không khí lạnh được đưa vào giữa đường ống ngoài và đường ống phụ. Khí này chứa plasma, có tác dụng ngăn cách khí với ống bên ngoài, ngăn không cho nó tan chảy.

Luồng khí phụ được sử dụng để nâng đáy thiết bị plasma ra khỏi vòi phun. Mẫu được đưa vào plasma thông qua một vòi nhỏ, đường kính thường là 1-2 mm; thông qua việc mở ống này, một tia khí được đưa vào trung tâm của tế bào plasma.

Icp-ms-la-gi-a-ewda1

Cấu trúc của đèn plasma

Hệ thống phát RF

Hệ thống tạo tần số vô tuyến (RF) mạnh mẽ và hiệu quả để tạo và bảo trì plasma. Một ưu điểm khác của hệ thống này là khả năng tách hoàn toàn hầu hết các dạng có trong mẫu, do đó giảm thiểu sự hình thành oxit cũng như các tác động và cản trở hóa học khác.

Các vấn đề trong quá trình phát triển máy phát RF bao gồm kích thước, độ bền, hiệu quả, độ tin cậy và tính dễ sử dụng.

Tính ổn định của máy phát RF phụ thuộc phần lớn vào khả năng thích ứng với các điều kiện thay đổi trong plasma do các mẫu hoặc nền mẫu khác nhau; điều này có thể được tạo điều kiện thuận lợi bằng cách chuyển đổi các điều kiện năng lượng để phù hợp với các thay đổi, hiện tượng còn được gọi là “” phù hợp “.

Có hai phương pháp chính để điều khiển và kết hợp máy phát RF: điều khiển bằng tinh thể và chạy tự do:

Bộ phát RF được điều khiển bằng tinh thể khớp và khóa tần số của bộ phát RF với dao động của tinh thể tham chiếu. Máy phát điện chạy tự do phù hợp với công suất yêu cầu của plasma và cho phép thay đổi tần số một chút.

Cấu hình theo dõi Plasma

Trong ICP-OES, các plasmas thường có thể được quan sát theo hai cách:

Cách cơ bản để theo dõi xuyên tâm là quan sát mặt cắt ngang plasma từ mặt bên Theo chiều dọc, nghĩa là quan sát plasma dọc theo toàn bộ chiều dài của plasma từ phía trên

Chế độ theo dõi xuyên tâm cung cấp độ nhạy ít hơn so với chế độ xem dọc trục, nhưng tốt hơn khi phân tích các mẫu khó như chất hữu cơ hoặc một lượng rất lớn chất rắn hòa tan. Theo dõi plasma theo chiều dọc mang lại độ nhạy cao hơn so với theo dõi xuyên tâm. Tuy nhiên, khi quan sát thấy plasma dọc theo toàn bộ chiều dài của nó, lượng ánh sáng quan sát được từ cả chất phân tích và sự phát xạ nền đều tăng lên.

Do đó, phương pháp giám sát này nhạy cảm hơn với nhiễu phổ.

Nhìn chung, có hai cấu hình đèn plasma trong hệ thống ICP-OES, mỗi cấu hình sử dụng đèn được thực hiện với các thiết bị riêng biệt.

Tham khảo: Iss Là Gì?

Trên đây là một số thông tin về Icp-ms là gì.Công cụ theo dõi xuyên tâm và xem kép chuyên dụng với các góc theo dõi hướng trục và xuyên tâm. Trong hệ thống xem kép, đèn plasma được đặc trưng bởi hướng nằm ngang. Trong thiết kế này, nhiệt và khói từ plasma chiết xuất đạt đến đỉnh, và gương ở kính trước luôn sạch sẽ mà không có sự chênh lệch nhiệt. Cấu hình này được sử dụng cho các mẫu nước tương đối sạch. Nếu ngọn đuốc được căn chỉnh theo chiều dọc và plasma hướng trục được nhìn từ trên xuống, nó có thể làm hỏng gương và phải bảo dưỡng.

Hãy thường xuyên truy cập website Eurowindow Đông Anh của chúng tôi để cập nhật nhiều thông tin hữu ích nhé!

Leave a Comment